主な用途・特長
ガラス基板の洗浄を行います。環境負荷の少ない洗浄方法を採用しています。
UV洗浄
UV照射によるドライ洗浄工程により、ウェット洗浄では落ちにくい有機化合物の汚れを分解除去します。同時に基材表面を親水性に変化させることで、後工程での洗浄効果を高める役割も持っています。
弊社では環境に優しい無電極UV照射ユニットを採用しております。
超音波洗浄
ディップ槽に設置した超音波発生装置により発生させた、微細な泡の破裂に伴うエネルギーが基材の表面から汚れを浮き上がらせます。この微細な泡により細かい汚れを落とし精度の高い洗浄が可能となります。
装置仕様・構成例
装置寸法 | 8055mm×2420mm(付帯含む) |
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有効処理幅 | 450mm |
基材厚み | 0.5~1.1mm |
搬送速度 | 0.5~2.0m/min |